ஜர்னல் ஆஃப் நானோ மெட்டீரியல்ஸ் & மாலிகுலர் நானோடெக்னாலஜி

திரவ குறைப்பு முறை மூலம் Cu ஹாலோ மைக்ரோஸ்பியர்களை உருவாக்குதல்

லியே எக்ஸ், குவாங் டி, வென்பின் எச் மற்றும் டெங் ஒய்

திரவ குறைப்பு முறை மூலம் Cu ஹாலோ மைக்ரோஸ்பியர்களை உருவாக்குதல்

Cu ஹாலோ மைக்ரோஸ்பியர் கள் இரண்டு-படி திரவ எதிர்வினை முறை மூலம் வெற்றிகரமாக ஒருங்கிணைக்கப்பட்டுள்ளன. முதலாவதாக, Cu(OH) _{2 வீழ்படிவுகள் CuSO 4} •5H ₂ O ஐ NaOH இல் சேர்ப்பதன் மூலம் உருவாக்கப்பட்டன , மேலும் அவை குளுக்கோஸால் Cu ₂ O திட நுண்ணோளங்களாகக் குறைக்கப்பட்டன . பின்னர், PVP மற்றும் allylthioura ஆகியவை Cu ₂ O இடைநீக்கத்தில் சேர்க்கப்பட்டன , மேலும் அவை ஹைட்ராசைன் ஹைட்ரேட் மூலம் Cu ஹாலோ மைக்ரோஸ்பியர்களாகக் குறைக்கப்பட்டன. மாதிரியானது எக்ஸ்ரே டிஃப்ராஃப்ரக்ஷன், ஃபீல்ட்-எமிஷன் ஸ்கேனிங் எலக்ட்ரான் மைக்ரோஸ்கோபி மற்றும் டிரான்ஸ்மிஷன் எலக்ட்ரான் மைக்ரோஸ்கோபி ஆகியவற்றால் வகைப்படுத்தப்பட்டது. முடிவுகள் சராசரி விட்டம் சுமார் 800nm ​​கொண்ட Cu வெற்று மைக்ரோஸ்பியர்களைக் காட்டியது. Cu ஹாலோ மைக்ரோஸ்பியர்களின் வளர்ச்சி செயல்முறை முன்மொழியப்பட்டது மற்றும் மெத்திலீன் நீலத்தின் (MB) சிதைவு எதிர்வினையில் உள்ள ஒளிச்சேர்க்கை பண்பும் ஆராயப்பட்டது. Cu மைக்ரோஸ்பியர்களின் உருவவியல் மற்றும் வெற்று அமைப்பு சேர்க்கப்பட்ட அல்லில்தியோரியாவின் அளவைப் பொறுத்தது என்பது கண்டறியப்பட்டது. ஒழுங்கற்ற உருவவியல் கொண்ட Cu நுண் துகள்களுடன் ஒப்பிடும்போது, ​​MB இன் சிதைவு வினையில் Cu ஹாலோ மைக்ரோஸ்பியர்ஸ் அதிக ஒளிச்சேர்க்கை செயல்பாட்டைக் காட்டுகிறது.